住友化学は９日、大阪工場（大阪市此花区）において、EUV（極端紫外線）やArF（フッ化アルゴン）などの先端半導体用フォトレジストの供給体制を一段と強化するため、製造プロセス技術・品質評価・分析に関する機能を集約した新棟の建設を決定したと発表した。2027年度末の完成を目指す。
フォトレジストは、半導体製造プロセスにおいて回路パターン形成に使用される感光性樹脂。先端ロジックやメモリー半導体の微細化・多層化を支える基幹材料で、生成AIの普及、IoT化の進展、データセンター投資の拡大を背景に、今後も高性能、高品質と安定供給への要求が一層高まることが見込まれる。住友化学は、ファインケミカル事業で培った有機合成技術を基盤とし、世界トップクラスの技術力を強みに先端半導体用フォトレジスト事業を拡大してきた。
住友化学は、22年に大阪工場に開発・評価新棟を建設し、先端露光機の導入を順次進めるなど、材料設計から評価までの開発力を強化してきた。一方、その開発成果をタイムリーな供給につなげるには、製造ラインにおけるプロセス管理の高度化が欠かせないという。
今回の新棟建設は、これまで工場内に分散していたEUVレジストやArFレジストの製造プロセス技術、品質評価、分析に関する機能を一体化し、さらにプロセス管理の高度化を図るもの。これにより、量産立ち上げのスピード向上や工程の作り込みによる品質の一層の安定化を進め、より高いレベルの品質信頼性と供給安定性を実現させる考えだ。大阪工場において「開発～量産化～分析」までを一気通貫で担う最先端フォトレジスト向けの体制を拡充することで、グローバルな安定供給機能の強化を狙う。
（IRuniverse K.Kuribara）
