第二章の前編では、1980年代日本が世界の半導体のトップに立ったDRAMでの成功体験をもとに、1990年代も引き続き「ムーアの法則」に沿ったDRAM開発を進めたことを述べた。その中で、「ムーアの法則」と半導体の微細化技術の重要なファクターのリソグラフィーについて、簡単ながら説明した。ここまでを理解頂いたところで、話を1990年代の日本のDRAMに戻す。

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