ＪＸ金属は10日、AI データセンター向けを中心に需要が急増している半導体用スパッタリングターゲットの生産能力を強化するため、ひたちなか新工場（茨城県ひたちなか市）内における増産投資を実施すると発表した。投資額は約230億円を予定しており、生産能力は2023年度比で1.6倍となる見込み。2027年度下期より順次稼働させる計画だ。
同社は2022年に茨城県ひたちなか市に大規模用地を取得。半導体分野をはじめとしてこれからのデジタル社会の進展に不可欠な先端材料の新たな中核拠点とするべく、ひたちなか新工場の建設工事を進めてきた。25年７月には先行してリサイクル物流センターの稼働を開始しており、26年３月末には半導体用スパ ッタリングターゲットの一部の生産設備の試運転を開始し、開業を迎える予定としている。
半導体材料の製造設備については、マーケット動向を見据えながら適宜機動的に増強を図ることとしていたが、AIデータセンター用途における先端ロジック半導体や先端メモリ半導体（HBM等）の需要が拡大し、先端半導体に必要となる当社の半導体用スパッタリングターゲットの急速な需要の拡大が見込まれることから、このタイミングで生産能力を拡充することが必要であると判断したという。
今回の能力増強によって、今後の需要拡大に応えられる安定供給体制を構築するとともに、世界の先端半導体サプライチェーンにおけるプレゼンスをより一層強化していく考えだ。また、設備の導入に際しては、既存の半導体用ス パッタリングターゲット生産の中核拠点である磯原工場で培った技術・ノウハウを活用し、より効率的な生産 ラインの構築を行う予定としている。
（IRuniverse K.Kuribara）
