日本が先行する半導体製造の新技術として注目されているのがナノインプリントリソグラフィ（NIL）である。現在、オランダASMLが最先端の微細露光技術で独占するEUVが非常に高額な装置なのに対して、同じ微細化で比較的安価な装置として注目される。現在のリソグラフィ技術の課題とNILの現状と将来性についてまとめてみた。

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