JX金属、半導体用スパッタリングターゲットの生産能力増強
2020/12/22 18:01
需要拡大に対応し、生産能力を約30%増強
JX金属株式会社(社長:村山誠一、以下「当社」)は、半導体の微細な配線の形成に用いる銅・銅合金、チタン、タンタルなどのスパッタリングターゲット(※1)の製造設備について総額120億円規模の増強を行い、生産能力を現行から約30%引き上げることとした。今後、設計・建設・立上げを行い、2022年春以降に順次稼働を開始する予定。
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