トリケミカル研究所(4369) ロジック半導体向けの新規材料のスペックインに注力
2022/03/18 17:24
同社は半導体シリコンウェハーの表面上に化学反応を用いて薄膜を堆積させるCVD(化学気相成長)で高比誘電膜を形成する高誘電 (High-k)材料を中心にCVD関連材料を中心に半導体材料が全体の92.9％(22/1期実績)を占め、国内ではマイクロン(旧エルピーダ)、韓国のSKハイニックス、台湾ではTSMCなどファウンドリー向けに
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