TSMCは12月7日、「2023 Supply Chain Management Forum」を開催し、2023年に卓越したサービスや製造装置、材料などを同社に提供した20社を「Excellent Performance Award」として表彰したことを発表した。（ソース：ニュースマイナビ）

 

　グローバルサプライチェーンにおける社会的、経済的、地政学的な課題に直面しているTSMCは、サプライチェーンパートナーと協力してそうした課題の克服を図り、業務の回復を達成できたという。また、パートナーとの密接な提携により、3nmを含む特殊かつ高度なプロセス技術の生産能力の最適化と拡大、および2nm以降の研究開発を成功裏に実現することができただけではなく、世界的な製造拠点を効果的に展開し、最先端のテクノロジーと優れた製造サービスを顧客に提供することを可能にしたともしている。

 

　TSMC トップは、サプライヤの貢献に感謝の意を示し、「安定した品質パフォーマンスを維持し、テクノロジーコラボレーションを加速し、将来的に高度なノードの導入を成功させるために、今後もサプライヤの揺るぎないサポートに依存し続ける」と述べたという。

 

Fig 1 2023年Q3でTSMCに表彰されたメーカ

 

　トップ２０社では、日本企業は７社選ばれている。このうち建設関連で表彰された鹿島建設を除くと半導体製造機器関連（東京エレクトロン、アルバック、ディスコ）が、検査装置関連（レーザーテック、）シリコンウエハ（SUMCO）、フォトリソ関連では（信越化学）が選出されている。Fig2は2022年度の同社のアニュアルレポートの抜粋である。

 

Fig 2 生産材料、ガス等副資材供給メーカーのリストと調達戦略

 

　世界の名だたるシリコンウエハが名をつられているが、このリストにはシェアトプの信越化学の名が見当たらない。

①Air Liquideは酸素、窒素、アルゴン、⽔素、ヘリウム、炭酸ガス、特殊ガス( モノシラン、三フッ化窒素、臭化⽔素など半導体製造関連ガス)、新規材料ガス( ヘキサクロロジシランなど有機⾦属等CVD/ALD ⽤成膜材料)、⾼純度ガス、超⾼純度ガス、精密混合ガス、ネオン、クリプトン、キセノン、標準ガス、などを取り扱っている。

②BASF は半導体製造で使用する洗浄液、フォトリソグラフィー補助剤( Defect Reduction Rinse)、メッキ液、メッキ用添加剤 CUPUR, CMP スラリー液　

 

　以下次回に続く。

 

 

（椿 匡之）

 

 

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